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    光学镀膜机清洗的工艺要求及常见污渍类型

    2020-07-29

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          光学镀膜机工艺启用进行前应清洗真空材料,从工件或系统材料表面清除污染物;真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的,因为由污染物后期机器启用时造成的气体、蒸气源会使真空系统不能达到所要求的真空度,同时也会真空部件连接处的强度和密封性能。这样后期会导致镀膜机镀的膜层不达标。真空镀材料暴露在空气中最易受到污染,污染的来源有很多种,最初的污染通常是表面本身形成过程中的一部分。吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使各种成分的表面污染物增加。


    光学镀膜机

     那么比较常见的真空材料表面上的污染物具体有哪些类型呢:
           一、水基类:操作时的手汗、吹气时的水汽、唾液等;
           二、酸、碱、盐类物质:清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等;
           三、表面氧化物:材料长期放置在空气中或放置在潮湿空气中所形成的表面氧化物;  
           四、抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物等。
           五:油脂:加工、装配、操作时沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等;
     
           在光学镀膜机使用镀膜材料镀膜前,对镀膜材料做简单的表面清洁可以延长镀膜机的使用寿命,是不可减少的必要环节。因为各种污染物不仅使真空系统不能获得所要求的真空度,还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。前期到位的清洗工作可以减少许多麻烦,避免许多小问题的发生,对工作效率、光学镀膜机镀膜质量都具有十分积极的作用??纱蟠筇岣哒婵障低持兴衅鞅诤推渌榧砻嬖诟鞴ぷ魈跫碌墓ぷ魑榷ㄐ?,清洗环节直接决定着
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