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    高精密

    磁控溅射

    光学镀膜机

    Magnetron sputtering optical coating machine
    真空应用解决方案提供商
    首页 > 光学设备 > 高精密磁控溅射光学镀膜机
    High precision multicavity magnetron sputtering optical coating machine 高精密磁控溅射光学镀膜机

          具备RF-ICP辅助磁控溅射后氧化模式,具有高沉积速率且光学性能匹配的特点。适用于车载盖板玻璃和3C产品前盖玻璃沉积AR膜,其中AR膜可为普通SiO2+Nb2O5膜系,也可为硬质SiO2+Si3N4膜系。同时也适用于3C产品后盖颜色膜(含渐变色膜)、NCVM膜的加工。

          旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高;可客制化的基板工件架结构定制,给客户产品摆放达到最大的利用空间;全自动一体的提拉升降的转架装置,大幅度减少机器开关门时间,大大提高了生产效率与工艺稳定性;汇成专利离子源具有工作范围广能量均衡,高离化率,超稳定工作效率,低耗能等特点。

          可利用时间精准控制薄膜厚度,达到设计工艺要求,节省晶控,光控环节,为客户省去大量的膜厚仪耗材;可生产高折射率氮化薄膜,提高薄膜硬度性能;低温成膜,可应对各种用途;自动调节气体流量专利装置,保持稳定的靶电压,保证成膜品质;可选“校正板外部调节机构”。

    Product Advantage.

    产品优势
    HCAR系列高精密多腔磁控溅射光学镀膜机包括以下关键功能:
    • 有效

      基于PC的有效自动系统控制,用于涂层过程

    • 优异

      优异的均匀性和最高的生产良率

    • 精准

      精确监控膜厚

    • 高效

      出色的溅镀技术和很强的量产能力

    • 专利

      汇成自主研发离子源

    • 简单

      易于操作和维护

    规格
    型号 HCMS-1650T
    镀膜区域 Φ1650x H850mm
    结构 多腔室
    性能
    转速 10~100RPM(可变)
    进出料室抽速 大气压至10Pa≤5min
    工艺室抽速 3.0×10-3Pa≤15min
    极限真空度 8.0×10-5Pa (成膜室)
    溅射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
    主要配置
    夹具系统 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动
    挂板 (挂板宽度200~300 ) × H850mm
    挂板尺寸可客制化调整
    排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵
    真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
    镀膜系统 DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 线性蒸发源
    充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
    控制系统 PC+PLC
    应用
    光学薄膜应用 UV/IR截止滤光片、带通滤光片、RGB滤光片、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等,兼容2D/3D基材
    适用波长 300nm~1300nm
    注:可客制化(数据仅供参考)
    规格
    型号 HCMS-2550T
    镀膜区域 Φ2550x H1400mm
    结构 多腔室
    性能
    转速 10~100RPM(可变)
    进出料室抽速 大气压至10Pa≤5min
    工艺室抽速 3.0×10-3Pa≤15min
    极限真空度 8.0×10-5Pa (成膜室)
    溅射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
    主要配置
    夹具系统 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动
    挂板 (挂板宽度200~500 ) × H1400mm
    挂板尺寸可客制化调整
    排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵
    真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
    镀膜系统 DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 线性蒸发源
    充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
    控制系统 PC+PLC
    应用
    光学薄膜应用 UV/IR截止滤光片、带通滤光片、RGB滤光片、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等,兼容2D/3D基材
    适用波长 300nm~1300nm
    注:可客制化(数据仅供参考)
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    电话:13316689188

    邮箱:office@hcvac.com

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