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    HCAR系列

    磁控溅射

    光学镀膜机

    Magnetron sputtering optical coating machine
    真空应用解决方案提供商
    首页 > 光学设备 > 磁控溅射光学镀膜机
    MAGNETRON SPUTTERING OPTICAL COATING MACHINE 磁控溅射光学镀膜机

          旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高;可客制化的基板工件架结构定制,给客户产品摆放达到最大的利用空间;全自动一体的提拉升降的转架装置,大幅度减少机器开关门时间,大大提高了生产效率与工艺稳定性;汇成专利离子源具有工作范围广能量均衡,高离化率,超稳定工作效率,低耗能等特点。

          可利用时间精准控制薄膜厚度,达到设计工艺要求,节省晶控,光控环节,为客户省去大量的膜厚仪耗材;可生产高折射率氮化薄膜,提高薄膜硬度性能;低温成膜,可应对各种用途;自动调节气体流量专利装置,保持稳定的靶电压,保证成膜品质;可选“校正板外部调节机构”。

         溅射沉积系统在侧壁上装有多个圆柱形靶材,以提高沉积速率和多层涂层,该系统配备有直流脉冲或射频功率圆形阴极,垂直安装的基板和圆柱形阴极可最大程度地减少涂层过程中的颗粒污染。

    AR 膜(基材玻璃透过率>91.5%):
    ■  420-680nm波段,单面平均透过率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
    ■  双面平均透过率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;

    颜色膜或渐变色膜:
    ■  以客户样板为准,连续五炉随机位置装片或满炉,颜色色差ΔE<1.2;
    ■  水煮测试:水煮 80℃30min,3M 百格测试(1*1mm)后大于 4B。

    Product Advantage.

    产品优势
    HCAR系列磁控溅射光学镀膜机包括以下关键功能:
    • 紧凑

      占地面积小,易于集成到工厂

    • 专利技术

      汇成自主研发离子源

    • 精准

      精确监控膜厚

    • 低温技术

      小于70℃低温状态成膜

    • 自动化

      自动调节气体流量

    • 简单

      易于操作和维护

    规格
    型号 HCMS-2100
    镀膜区域 Φ2100x H1200mm
    结构 立式前开门,SUS304不锈钢
    性能
    转速 10~100RPM(可变)
    成膜室抽速 3.0×10-3Pa≤30min
    极限真空度 1.0×10-4Pa
    溅射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
    主要配置
    夹具系统 底部中心旋转公转夹具桶
    排气系统 机械泵 + 罗茨泵 + 分子泵 + 低温泵
    真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
    镀膜系统 DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 阻抗式蒸发源
    充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
    膜厚控制仪 晶控或光控
    控制系统 PC+PLC
    应用
    光学薄膜应用 AR、AS/AF、NCVM、装饰膜、HR膜等
    适用波长 380nm~780nm
    注:可客制化(数据仅供参考)

    Application cases.

    应用案例
    数码科技(成像、显示、电路、结构装饰件),传统光学、眼镜,科学仪器、光通信、半导体、新能源



    规格
    型号 HCMS-1800
    镀膜区域 Φ1800x H1400mm
    结构 立式前开门,SUS304不锈钢
    性能
    转速 10~100RPM(可变)
    成膜室抽速 3.0×10-3Pa≤30min
    极限真空度 1.0×10-4Pa
    溅射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
    主要配置
    夹具系统 底部中心旋转公转夹具桶
    排气系统 机械泵 + 罗茨泵 + 分子泵 + 低温泵
    真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
    镀膜系统 DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 阻抗式蒸发源
    充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
    膜厚控制仪 晶控或光控
    控制系统 PC+PLC
    应用
    光学薄膜应用 AR、AS/AF、NCVM、装饰膜、HR膜等
    适用波长 380nm~780nm
    注:可客制化(数据仅供参考)
    规格
    型号 HCMS-1300
    镀膜区域 Φ1300x H700mm
    结构 立式前开门,SUS304不锈钢
    性能
    转速 10~100RPM(可变)
    成膜室抽速 3.0×10-3Pa≤30min
    极限真空度 1.0×10-4Pa
    溅射靶材 Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5 ...
    主要配置
    夹具系统 底部中心旋转公转夹具桶
    排气系统 机械泵 + 罗茨泵 + 分子泵 + 低温泵
    真空控制系统 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
    镀膜系统 DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 阻抗式蒸发源
    充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
    膜厚控制仪 晶控或光控
    控制系统 PC+PLC
    应用
    光学薄膜应用 AR、AS/AF、NCVM、装饰膜、HR膜等
    适用波长 380nm~780nm
    注:可客制化(数据仅供参考)

    Application cases.

    应用案例

    数码科技(成像、显示、电路、结构装饰件),传统光学、眼镜,科学仪器、光通信、半导体、新能源

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    电话:13316689188

    邮箱:office@hcvac.com

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